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반도체 포토리소그래피 반도체 포토리소그래피(Photolithography) 과정은 반도체 제조 공정에서 매우 중요한 역할을 하며, 고도로 정밀한 미세 패턴을 실리콘 웨이퍼 표면에 형성하는 기술입니다. 이 과정은 여러 단계로 나누어져 있으며, 각 단계는 매우 세밀하게 조정되어야 합니다. 여기서는 포토리소그래피 과정을 자세히 설명하겠습니다.1. 웨이퍼 준비 (Wafer Preparation)포토리소그래피 공정의 첫 번째 단계는 실리콘 웨이퍼를 준비하는 것입니다. 이 단계에서는 웨이퍼 표면을 청소하고, 필요한 경우 산화막을 형성합니다. 웨이퍼는 일반적으로 클린룸 환경에서 처리되며, 이는 공기 중의 입자나 오염물이 웨이퍼 표면에 붙지 않도록 하기 위함입니다. 2. 포토레지스트 도포 (Photoresist Coa..