함께하는 woo0

반도체 평탄화 과정 반도체 평탄화(CMP: Chemical Mechanical Planarization) 과정은 반도체 제조 공정에서 중요한 단계 중 하나로, 웨이퍼 표면을 평탄하게 만들어 다양한 층을 정확하게 쌓을 수 있도록 하는 과정입니다. 이 과정은 반도체 소자의 성능과 신뢰성을 높이는 데 필수적입니다.1. CMP의 필요성반도체 공정에서는 여러 층의 박막을 웨이퍼 위에 증착하고, 이를 패터닝하여 소자를 형성합니다. 각 층이 평탄하지 않으면 후속 공정에서 패턴의 정밀도가 떨어지고, 소자의 성능과 신뢰성에 문제를 일으킬 수 있습니다. 따라서 각 층을 평탄하게 만드는 것이 매우 중요합니다. 2. CMP의 기본 원리CMP 과정은 화학적 반응과 기계적 마찰을 결합하여 웨이퍼 표면을 연마하는 방식입니다. 이는..

반도체 배선 금속 과정 반도체 금속 배선(Metal Interconnection) 과정은 반도체 소자의 각 부분을 전기적으로 연결하여 회로를 완성하는 중요한 공정입니다. 이 과정은 여러 단계로 나뉘며, 각각의 단계는 고도로 정밀한 기술이 필요합니다. 주요 금속 배선 공정은 다음과 같습니다.1. 절연층 형성 (Dielectric Deposition)- 절연층 증착 (Deposition of Dielectric Layer) 금속 배선을 위해 먼저 절연층을 형성합니다. 이 절연층은 금속 배선 간의 전기적 절연을 제공합니다. 일반적으로 실리콘 산화물(SiO₂) 또는 실리콘 질화물(Si₃N₄) 같은 절연 물질이 사용되며, 화학 기상 증착(CVD) 또는 물리 기상 증착(PVD) 기술이 사용됩니다. 화학 기상 증착(..